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半導(dǎo)體工藝流程應(yīng)用案例

許多半導(dǎo)體及電子產(chǎn)品加工和操作過程都需要嚴格控制的干燥環(huán)境。

許多半導(dǎo)體及電子產(chǎn)品加工和操作過程都需要嚴格控制的干燥環(huán)境。空氣濕度過高會導(dǎo)致電路接點腐蝕、芯片電路表面凝結(jié)水分和光刻膠粘連不當,導(dǎo)致半導(dǎo)體封裝過程中出現(xiàn)操作故障。因此,我們可以使用轉(zhuǎn)輪除濕技術(shù),以便維持干燥工作間和無塵室內(nèi)的適當工作環(huán)境。

濕度控制可防止:

  • 電路接點腐蝕
  • 芯片電路表面凝結(jié)水分
  • 設(shè)備老化
  • 光刻膠粘連不當

因此,在以下場合必須進行濕度控制:

封裝區(qū)

在半導(dǎo)體和集成電路的生產(chǎn)過程中,濕度過大會對焊接工藝造成不利影響,使不良品增多??涛g過程中,人們會使用一種叫做光刻膠的光敏高分子混合液覆蓋電路引線。具有吸濕性的光刻膠會吸收水分,致使微電路引線被錯誤切斷或連通,導(dǎo)致電路故障。

晶圓制造區(qū)

晶圓加工過程中,旋涂機會將顯影劑噴射在晶圓表面,使晶圓表面的溶劑迅速蒸發(fā),以達到為晶圓表面降溫的效果。同時,這也會導(dǎo)致空氣中的水蒸汽在晶圓表面凝結(jié)成水滴。晶圓表面濕度過大會導(dǎo)致顯影劑的化學特性發(fā)生改變。光刻膠同樣也會吸收水分,導(dǎo)致高分子聚合物成分膨脹。通過控制相對濕度,便可保證晶圓表面溫度不會低于周圍空氣露點溫度,從而防止故障和損壞。

光刻間

光刻間過于潮濕會導(dǎo)致二氧化硅吸收水分、光刻膠粘連不當,造成晶圓在應(yīng)力作用下產(chǎn)生斷裂和表面缺陷。

加快真空泵老化

如果濕度水平過高,低溫泵等真空設(shè)備會因空氣中存在大量水蒸汽而出現(xiàn)轉(zhuǎn)速降低的情況。相對濕度降低后,批處理速度就可以得到提升,從而促進生產(chǎn)效率的提升。

保護外延設(shè)備

水蒸汽或水分凝結(jié)在低溫的外延設(shè)備表面,會使設(shè)備部件受到腐蝕,導(dǎo)致運行故障并降低處理速度。

除了可以實現(xiàn)理想的空氣條件,蒙特還可提供用于消除廢氣中揮發(fā)性有機化合物(VOC)的 Zeol VOC 減排系列產(chǎn)品。半導(dǎo)體加工過程中排出的廢氣中含有 VOC。它對人體健康和環(huán)境有害,因此有關(guān)部門要求減少這種物質(zhì)的排放量。沸石轉(zhuǎn)輪濃縮設(shè)備可首先將 VOC 進行高效濃縮,從而大大降低減排成本。

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對于每分每秒都在追求生產(chǎn)進度的半導(dǎo)體工業(yè)來說,轉(zhuǎn)輪濃縮系統(tǒng)的更大優(yōu)勢在于其具有高度可靠性,可在壓力波動更低的情況下穩(wěn)定排放廢氣,大大節(jié)省運營成本。蒙特系統(tǒng)可將包含低濃度 VOC 的大量廢氣壓縮成低濃度的液體,再利用氧化劑進行經(jīng)濟高效的燃燒去除。系統(tǒng)壓降較小,有助于排氣扇節(jié)約能源成本。

蒙特沸石轉(zhuǎn)輪濃縮設(shè)備系統(tǒng)在 VOC 減排方面處于技術(shù)**地位。目前安裝該系統(tǒng)的包括一些世界知名企業(yè),現(xiàn)已有200多套系統(tǒng)在為我們的客戶提供服務(wù)。

蒙特是研究 VOC 疏水沸石吸收技術(shù)的先驅(qū)者。蒙特 VOC 減排系統(tǒng)可實現(xiàn) 95% 以上的 VOC 燃燒去除率(DRE),而其燃料費用與僅使用氧化劑相比可降低 30-50%。

如需了解更多相關(guān)內(nèi)容,請聯(lián)系您身邊的蒙特銷售辦事處,或填寫右側(cè)聯(lián)系表發(fā)送您的問詢。

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污染控制與VOC減排

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汽車

蒙特可提供專門用于汽車行業(yè)的方案,可確保溫度和濕度恒定,甚至可達到精確的規(guī)范要求。我們的產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域十分廣泛。

電子產(chǎn)品

整體環(huán)境管控對電子加工運行過程和提供任務(wù)關(guān)鍵型服務(wù)的設(shè)施至關(guān)重要。